Влияние степени легирования активной области InGaAs/InP 2.5 мкм фотодетекторов на их электрофизические характеристики
Авторы:
Аннотация:
In0,83Ga0,17As/InP PIN-фотодиодные гетероструктуры с различными концентрациями легирующей примеси в поглощающем слое были выращены методом молекулярно-пучковой эпитаксии. Метаморфные буферные слои использованы для уменьшения плотности дислокаций несоответствия в активной области гетероструктур. Были изучены вольт-фарадные и вольт-амперные характеристики полученных кристаллов фотодиодов. На основе вольт-амперных характеристик, полученных при разных температурах, был исследован вклад различных механизмов образования темновых токов.