Транзисторные структуры типа рНЕМТ: исследование особенностей полупроводниковой гетероструктуры методами атомно-силовой микроскопии
Авторы:
Аннотация:
Морфология поверхности транзисторных структур типа рНЕМТ на основе GaAs исследована методами атомно-силовой микроскопии. Рассматрены особенности технологии формирования рНЕМТ-транзисторов, факторы, влияющие на рабочие параметры таких структур. На примере исследования активной области рНЕМТ-транзисторов показаны возможности повышения информативности данных при использовании комбинированного подхода, сочетающего процессы травления с последующей АСМ.