Синтез нанопроволок типа ядро-оболочка на основе Mg2Si
В данной работе был предложен метод синтеза нанопроволок с гетероструктурой типа ядро-оболочка на основе Mg2Si/Si. Нанопроволоки кремния, выступающие в качестве источника кремния для реакции силицидообразования, были получены хорошо изученным металл-стимулированным химическим травлением кремния с ориентацией (100), легированного бором, с удельным сопротивлением 1−10 Ωxсм. В качестве каталитического металла использовалась пленка золота толщиной 30 нм с адгезионным подслоем титана толщиной 1,5 нм. Вытравленные нанопроволоки имели высоту ~10 мкм и диаметр 1,5 мкм. Оболочка Mg2Si была сформирована с помощью метода твердофазной эпитаксии в условиях сверхвысокого вакуума. Толщина силицидной оболочки составляла 400−600 нм на боковых поверхностях нанопроволок.