Определение параметров схемы замещения гальванической ячейки в процессе микродугового оксидирования

В работе исследуется возможность применения метода электрохимической импедансной спектроскопии для определения толщины оксидных покрытий в процессе микродугового оксидирования. В ходе исследования  выявлена структура и определены значения элементов электрической схемы замещения гальванической ячейки с учетом электрохимических импедансов методом параметрической оптимизации. Предложенная схема  замещения учитывает процессы диффузии ионов через оксидный слой и неидеальность электрической емкости покрытия, которая обусловлена его пористой структурой. В результате регрессионного и  корреляционного анализа полученных экспериментальных данных обнаружена сильная обратная корреляция фактора пропорциональности элемента постоянной фазы схемы замещения гальванической ячейки с  толщиной формируемых покрытий. Метод определения толщины оксидных покрытий имеет удовлетворительную точность и может быть использован для лабораторных исследований. Предложенная схема замещения  гальванической ячейки может быть использована для разработки цифрового двойника процесса микродугового оксидирования.