Особенности морфологии Si наноструктур, выращенных в мезо- и макропористых кремнеземах методом CVD

Изучена морфология кремниевых наноструктур, получаемых методом термического газофазного осаждения, внутри частиц мезопористого кремнезема (mSiO₂) и коллоидного кристалла — макропористого синтетического опала. Предложенный метод позволяет получить однородный слой Si на поверхности непористых сферических
частиц кремнезема, образующих макропоры в опале, тогда как 3-нм поры внутри мезопористых частиц полностью заполняются аморфным кремнием. Применяемый технологический подход обеспечивает постепенное изменение степени заполнения пор, в свою очередь, определяющее ступенчатое изменение характеристик пористости
mSiO₂/Si и модификацию фотонно-кристаллических свойств композита опал-Si.